奨励賞（出光興産賞）

不飽和炭化水素の活性化を鍵とする遷移金属錯体を用いる新規触媒反応の開発

寺尾　潤殿（大阪大学大学院工学研究科 助手）

　寺尾氏は，遷移金属触媒を用いたオレフィン，ジエン等の不飽和炭化水素に関するさまざまな新規反応を開発してきた。これらの反応は，新規化学品の合成に関する方法論の幅を広げたという点で，合成化学的に貢献度が高いと考えられる。

　寺尾氏の研究の独創的な点は，オレフィンへの求核的な反応に比べて例が少ない，新たなコンセプトによる配位オレフィンへの親電子的な反応を開発することに成功した点である。すなわち，よく知られているワッカー反応では，オレフィンを触媒金属に配位させることによりオレフィンのπ電子密度を低下させ，求核的な反応を起こさせるのに対して，同氏の方法は，触媒金属の電子密度を向上させることにより，オレフィンに対する親電子的な反応をさせる方法を開発した点である。また，単一の反応手法を見出しただけでなく，初期のZr，Tiといった前周期遷移金属を用いることによるクロロシランによる炭素−ケイ素結合反応の生成反応，ヒドロアルキル化反応をはじめとして，後周期のNiおよびPd等の金属を用いたジエンヘのダブルシリル化反応，カルボシリル化反応等の様々な反応の開発に成功している。これは，同氏のこれら新規反応のメカニズムに関する深い洞察力に基づくものと考えられ，その展開力に関しても高く評価される。さらに，これらの反応手法を数多く実証したことは，今後の新たな触媒反応の設計に対する指針を与えたという点で，画期的である。

　寺尾氏の開発したこれらの新規反応は，新規化学品を合成するにあたって，より入手が容易なクロロシランやハロゲン化アルキルを用いた触媒反応を可能にした。たとえば，従来のシラン化合物の合成法としてヒドロシリル化反応が知られているが，ヒドロシランに比べて入手が容易なクロロシランを用いてシラン化合物を合成することを可能にしたということは，合成化学者に新たな合成ルートの可能性を提供したという点で貴重である。

　以上の研究結果は，合成化学者に新たな方法論を数多く提供したというだけにとどまらず，錯体触媒分野における触媒設計においても多大な寄与を与えるものと判断され，本会表彰規程第12条に該当するものと認められる。

 

｜表彰｜平成17年度表彰受賞者一覧｜ページへ